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microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

摩方超高精度光固化3d打印機(jī)microArch® S230 2μm高精度微納3D打印系統(tǒng)，基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建。全自動水平調(diào)節(jié)系統(tǒng)：平臺自動調(diào)平、膜面自動調(diào)平、滾刀自動調(diào)節(jié)三大系統(tǒng)，打印效率提升近50倍。

Exaddon CERES是基于電化學(xué)沉積（Electrochemical Deposition）技術(shù)推出的微納金屬3D打印系統(tǒng)，可以在室溫下以亞微米級分辨率打印超高精密金屬器件，且無需進(jìn)行后處理。該系統(tǒng)非常適用于生物傳感、高頻通訊器件、微流控、傳熱和微機(jī)械等領(lǐng)域的創(chuàng)新研究。

摩方精密復(fù)合精度光固化3D打印機(jī) D1025，復(fù)合光學(xué)精度：10μm和25μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復(fù)合樹脂增材制造設(shè)備。

摩方精密復(fù)合精度光固化3D打印系統(tǒng)microArch® D0210，復(fù)合光學(xué)精度：2μm和10μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，極限微尺度復(fù)合樹脂增材制造設(shè)備。